GB 50136-2011-電鍍廢水治理設計規范

人人文庫專用

中華人民共和國國家標準

電鍍廢水治理設計規范

Codefordesignofelectroplatingwastewaterprocessing

GB50136-2011

主編部門：中國機械工業聯合會

批準部門：中華人民共和國住房和城鄉建設部

施行日期：2012年6月1日

人人文庫專用

中國計劃出版社

2012北京

書

中華人民共和國國家標準

電鍍廢水治理設計規范

GB50136-2011

☆

中國計劃出版社出版

(地址：北京市西城區木樨地北里甲11號國宏大廈C座4層)

(郵政編碼：100038電話：6390643363906381)

新華書店北京發行所發行

世界知識印刷廠印刷

人人文庫專用850×1168毫米1/322.75印張69千字

2012年1月第1版2012年1月第1次印刷

印數1—4000冊

☆

統一書號：1580177·747

定價：17.00元

中華人民共和國住房和城鄉建設部公告

第1078號

關于發布國家標準

《電鍍廢水治理設計規范》的公告

現批準《電鍍廢水治理設計規范》為國家標準，編號為

GB50136—2011，自2012年6月1日起實施。其中，第3.0.9、

10.0.4條為強制性條文，必須嚴格執行。原《電鍍廢水治理設計規

范》GBJ136—90同時廢止。

本規范由我部標準定額研究所組織中國計劃出版社出版發行。

中華人民共和國住房和城鄉建設部

二〇一一年七月二十六日

人人文庫專用

前言

本規范是根據原建設部《關于印發〈二○○二～二○○三年度

工程建設國家標準制訂、修訂計劃〉的通知》(建標﹝2003﹞102號)

的要求，由中國新時代國際工程公司會同有關單位對國家標準《電

鍍廢水治理設計規范》GBJ136—90進行修訂而成的。

本規范在修訂過程中，修訂組開展了專題研究，進行了廣泛的

調查分析，總結了近年來我國電鍍廢水處理工程的設計、施工、運

行經驗，吸納了該領域新的科研成果，并廣泛征求了有關單位意

見，經過反復修改和補充，最后經審查定稿。

本規范共分10章和3個附錄。主要內容包括：總則、術語和

符號、基本規定、鍍件的清洗、化學處理法、離子交換處理法、電解

處理法、內電解處理法、污泥處理和廢水處理站設計等。

本規范本次修訂的主要內容是：

1.增加了內電解處理法、廢水處理站設計；

2.刪除了離子交換法處理含鉻廢水、鈍化含鉻廢水、鉀鹽鍍

鋅廢水、氰化鍍銅和氰化鍍銅錫廢水；

3.對原規范其他各章進行了全面修訂，重新調整了章節

結構。

本規范中以黑體字標志的條文為強制性條文人人文庫專用，必須嚴格執行。

本規范由住房和城鄉建設部負責管理和對強制性條文的解

釋，中國機械工業聯合會負責日常管理，中國新時代國際工程公司

負責具體技術內容的解釋。請各單位在執行過程中注意總結經

驗，積累資料，并及時將意見或建議寄送中國新時代國際工程公司

(地址：陜西省西安市環城南路東段128號，郵政編碼：710054，

E-mail：cnme@)，以供今后修訂時參考。

·1·

本規范組織單位、主編單位、參編單位、主要起草人和主要審

查人：

組織單位：中國機械工業勘察設計協會

主編單位：中國新時代國際工程公司

參編單位：中國海誠工程科技股份有限公司

中聯西北工程設計研究院

中國聯合工程公司

中國航空規劃建設發展有限公司

中機國際工程設計研究院

北方設計研究院

中國電子工程設計院

主要起草人：張軍鋒徐永民趙肇一趙興建阮建林

郭偉華于寒松彭吉興吳玉華韓永鋒

李德喜劉筍徐輝

主要審查人：胡曉東王維平王衛政陳士洪樊振江

崔小英周承志權武李瑾徐經策

何勇

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·2·

目次

1總則…………………(1)

2術語和符號………………(2)

2.1術語……………………(2)

2.2符號……………………(3)

3基本規定…………………(4)

4鍍件的清洗………………(6)

4.1回收清洗法……………(6)

4.2連續逆流清洗法…………(6)

4.3間歇逆流清洗法…………(7)

4.4反噴洗清洗法……………(8)

4.5超聲波清洗法……………(9)

5化學處理法………………(10)

5.1含氰廢水………………(10)

5.2含鉻廢水………………(11)

5.3含鎘廢水………………(16)

5.4混合廢水………………(17)

6離子交換處理法…………(19)

6.1含鎳廢水人人文庫專用………………(19)

6.2含金廢水………………(22)

7電解處理法………………(24)

7.1含鉻廢水………………(24)

7.2鍍銀廢水………………(25)

7.3鍍銅廢水………………(26)

8內電解處理法……………(29)

·1·

8.1連續式處理……………(29)

8.2間歇式處理……………(30)

8.3工藝參數………………(31)

9污泥處理…………………(32)

10廢水處理站設計…………(33)

附錄A鍍件單位面積的鍍液帶出量………(35)

附錄B離子交換柱的設計…………………(36)

附錄C電解槽設計…………(37)

本規范用詞說明………………(40)

引用標準名錄…………………(41)

附：條文說明…………………(43)

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·2·

Contents

1Generalprovisions………(1)

2Termsandsymbols………(2)

2.1Terms…………………(2)

2.2Symbols………………(3)

3Basicrequirement………(4)

4Rinse………(6)

4.1Therecyclerinsemethod………………(6)

4.2Continuouscountercurrentrinsemethod…(6)

4.3Batchcountercurrentrinsemethod………(7)

4.4Backsprayrinsemethod…………………(8)

4.5Ultrasonicrinsemethod…………………(9)

5Chemicaltreatmentmethod……………(10)

5.1Cyanide-containingwastewater…………(10)

5.2Chromium-containingwastewater………(11)

5.3Cadmium-containingwastewater…………(16)

5.4Mixedwastewater………(17)

6Ion-exchangetreatmentmethod………(19)

6.1Nickel-containin人人文庫專用gwastewater……………(19)

6.2Gold-containingwastewater………………(22)

7Electrolytictreatmentmethod…………(24)

7.1Chromium-containingwastewater………(24)

7.2Silver-electroplatingwastewater…………(25)

7.3Copper-electroplatingwastewater………(26)

8Internal-electrolysistreatmentmethod…(29)

·3·

8.1Continuoustreatment……(29)

8.2Batchtreatment…………(30)

8.3Processparameters………(31)

9Sludgedisposal…………(32)

10Designofwastewatertreatmentplant………………(33)

AppendixAThestickedplatingliquidquantityonunit

areaoftheplatedparts……(35)

AppendixBDesignofion-exchangecolumn……………(36)

AppendixCDesignofelectrolyzer………(37)

Explanationofwordinginthiscode………(40)

Listofquotedstandards……(41)

Addition：Explanationofprovisions………(43)

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·4·

1總則

1.0.1為貫徹執行國家有關環境保護的法律、法規，使電鍍廢水

治理工程設計達到防治污染、保護和改善環境的要求，并做到技術

先進、節約能源、經濟合理、安全適用，制定本規范。

1.0.2本規范適用于新建、擴建和改建的電鍍廢水治理工程的

設計。

1.0.3在選擇電鍍廢水治理工程設計方案時，應結合電鍍工藝、

廢水排放條件、環境保護要求等具體情況，經全面技術經濟比較后

確定。

1.0.4電鍍廢水治理工程設計應采用新技術、新工藝、新材料和

新設備，并應采用自動化控制和監測，嚴禁采用國家明令淘汰的工

藝、技術、設備和材料。

1.0.5電鍍廢水治理工程的設計除應符合本規范外，尚應符合國

家現行有關標準的規定。

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·1·

書

2術語和符號

2.1術語

2.1.1含鉻廢水chromium-containingwastewater

電鍍生產工藝中排放的廢水中含有六價鉻離子。

2.1.2含氰廢水cyanide-containingwastewater

電鍍生產工藝中排放的廢水中含氰離子。

2.1.3混合廢水mixedwastewater

電鍍生產工藝中排放的廢水中含多種金屬離子、酸和堿。

2.1.4廢液wasteelectrobath

電鍍生產工藝中因不能滿足工藝要求而廢棄的溶液。

2.1.5鍍液electrobath

電鍍生產工藝中使用的各類配制液體。

2.1.6電解處理法electrolytictreatmentmethod

利用電解反應處理廢水的方法。

2.1.7電流密度currentdensity

陽極或陰極通過的電流與極板或工件表面積之比。

2.1.8極距electrodedistance

電解槽內相鄰兩塊陽、陰極板間的凈距離。

2.1.9雙極性電極人人文庫專用bipolarelectrode

一個不與外電源相連的浸入陽極與陰極間電解液中的導體，

靠近陽極一邊起著陰極的作用，靠近陰極一邊起著陽極的作用，即

同一塊極板一面是陽極而另一面是陰極。

2.1.10內電解法internal-electrolysistreatmentmethod

利用鐵-碳在電解質溶液中腐蝕形成的內電解過程來處理廢

水的電化學方法。

·2·

2.1.11有價金屬valuablemetal

有回收價值的金屬。

2.2符號

d———鍍液帶出量；

E———交換容量；

i———電流密度；

Mx———電極析出金屬量；

N———電能消耗；

n———清洗槽級數，電極串聯級數；

P———發射功率；

T———周期；

ω———功率密度；

X———鍍件溶液帶出量與換水量之比；

μ———離子交換柱空間流速。

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·3·

3基本規定

3.0.1鍍件用水清洗時，應選用清洗效率高、用水量少和能回用

鍍件帶出液的清洗工藝。

3.0.2電鍍工藝的設計宜采用低濃度鍍液，并應采取減少鍍液帶

出量的措施。鍍件單位面積的鍍液帶出量應通過試驗確定，當無

試驗條件時，可按本規范附錄A的規定確定。

3.0.3回收槽或第一級清洗槽的清洗水水質應符合電鍍工藝要

求。當回收槽內主要金屬離子濃度達到回用程度時，宜補入鍍槽

回用。當回用液對鍍液質量產生影響時，應采用過濾、離子交換等

方法凈化后再回用。

3.0.4末級清洗槽中主要的金屬離子允許濃度宜根據電鍍工藝

要求確定，亦可采用下列數據：

1中間鍍層清洗為5mg/L～10mg/L。

2最終鍍層清洗為20mg/L～50mg/L。

3.0.5當電鍍槽鍍液蒸發量與清洗用水量相平衡時，宜采用自然

封閉循環工藝流程；當蒸發量小于清洗用水量時，可采用強制封閉

循環工藝流程。鍍液蒸發量宜通過試驗確定。

3.0.6鍍件預處理的清洗，宜采用串聯清洗工藝流程，其酸洗清

洗水可復用于堿洗清洗水人人文庫專用。

3.0.7廢液不應直接進入廢水處理系統。

3.0.8含氰廢水、含鉻廢水、含有價金屬的廢水應分質分管排至

廢水處理站處理。

3.0.9含氰廢水嚴禁與酸性廢水混合。

3.0.10廢水與投加的化學藥劑混合、反應時，應進行攪拌。攪拌

方式可采用機械、水力或空氣。當廢水含有氰化物或所投加的藥

·4·

劑在反應過程中產生有害氣體時，不宜采用空氣攪拌。

3.0.11當廢水需要進行過濾時，濾料層的沖洗排水應排入調節

池，不得直接排放。

3.0.12廢水中同時含有氰化物和六價鉻時，應先處理氰化物，再

處理六價鉻。

3.0.13采用離子交換法處理某一鍍種的清洗廢水時，不應混入

其他鍍種或地面散水等廢水。當離子交換樹脂的洗脫回收液回用

于鍍槽時，不得混入不同鍍液配方的廢水。

3.0.14進入離子交換柱的廢水，其懸浮物濃度不應超過15mg/L，

當超過時，在進入離子交換柱前應進行預處理。

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·5·

4鍍件的清洗

4.1回收清洗法

4.1.1回收清洗法，可采用圖4.1.1的基本工藝流程。工藝流程中

的一級或二級回收槽的設置，應根據回收槽的最高允許濃度確定。

回收液應回用。

圖4.1.1回收清洗法的基本工藝流程

4.1.2回收清洗法，鍍件單位面積的清洗用水量宜小于100L/m2。

4.2連續逆流清洗法

4.2.1連續逆流清洗法可采用圖4.2.1的基本工藝流程。末級

清洗槽廢水濃度不得超過允許濃度。

人人文庫專用

圖4.2.1連續逆流清洗法的基本工藝流程

·6·

4.2.2連續逆流清洗法的小時清洗用水量可按下式計算，并應以

小時電鍍鍍件面積的產量進行復核，其鍍件單位面積的清洗用水

量應小于50L/m2：

n

C0()

q1=d4.2.2

㊣CnS

式中：q———小時清洗水量(L/h)；

1

d———單位時間鍍液帶出量(L/h)；

n———清洗槽級數；

C0———電鍍槽鍍液中金屬離子濃度(mg/L)；

Cn———末級清洗槽廢水中金屬離子濃度(mg/L)；

S———濃度修正系數，指每級清洗槽的理論計算濃度與實測

濃度的比值。

4.2.3濃度修正系數宜通過試驗確定，當無試驗條件時，可按表

4.2.3的規定確定。

表4.2.3濃度修正系數

清洗槽級數12345

濃度修正系數0.90～0.950.70～0.800.50～0.600.30～0.400.10～0.20

4.2.4連續逆流清洗的各級清洗槽之間應設置溢流擋板、溢流

窄縫、溢流導管等防止水流短路的措施人人文庫專用。清洗槽底部宜設置排

空管。

4.3間歇逆流清洗法

4.3.1間歇逆流清洗法可采用圖4.3.1的基本工藝流程。當末

級清洗槽廢水濃度達到允許濃度時，應逆流逐級全部換水或部分

換水。

·7·

圖4.3.1間歇逆流清洗法的基本工藝流程

4.3.2間歇逆流清洗法每清洗周期換水量可按下列公式計算，并

應以每周期電鍍鍍件面積的產量進行復核，其鍍件單位面積的清

洗用水量的計算結果不應大于30L/m2：

dT

q=(4.3.2-1)

2X

n

Cnn！S

X=(4.3.2-2)

㊣C0

式中：q———每清洗周期換水量(L)；

2

X———鍍件溶液帶出量與換水量之比；

T———清洗周期(h)；

n！———清洗槽級數階乘；

S———濃度修正系數。

4.3.3濃度修正系數宜通過試驗確定，當無條件試驗時，可按表

4.3.3的規定確定人人文庫專用。

表4.3.3濃度修正系數

清洗槽級數12345

濃度修正系數0.90～0.950.70～0.800.50～0.600.30～0.400.20～0.25

4.4反噴洗清洗法

4.4.1反噴洗清洗法可采用圖4.4.1的基本工藝流程。鍍件每

·8·

次浸洗后應用后一級槽的清洗水進行反噴洗，鍍件從末級清洗槽

提出時，宜用補充水噴洗。所有清洗和噴洗應采用自動控制，并應

與電鍍自動生產線相協調。

圖4.4.1反噴洗清洗法的基本工藝流程

4.4.2反噴洗清洗法，鍍件單位面積的清洗用水量宜通過試驗確

定，且不宜大于10L/m2。

4.4.3反噴洗清洗法的噴洗泵取水口高度宜設在槽體中下部。

4.5超聲波清洗法

4.5.1超聲波清洗采用的功率密度宜通過試驗確定，也可按下式

計算確定，且不宜小于0.5W/cm2：

ω=P/A(4.5.1)

式中：ω———功率密度(W/cm2)；

P———發射功率(W)；

A———人人文庫專用發射面積(cm2)。

4.5.2超聲波發生器的發射功率宜通過試驗確定，亦可按鍍件清

洗槽容積進行計算，其單位容積的發射功率值宜為15W/L。

·9·

5化學處理法

5.1含氰廢水

5.1.1化學法處理含氰廢水宜采用堿性氯化法，其廢水中氰離子

的濃度不宜大于50mg/L。

5.1.2采用堿性氯化法處理含氰廢水時，應避免鐵、鎳離子混入

含氰廢水處理系統。

5.1.3堿性氯化法處理含氰廢水應采用二級氧化處理，當受納水

體的水質許可時，可采用一級氧化處理。

5.1.4采用二級氧化處理含氰廢水時，可采用圖5.1.4的基本工

藝流程。第一級氧化和第二級氧化所需氧化劑應分階段投加。

圖5.1.4二級氧化處理含氰廢水的基本工藝流程

ORP—氧化還原電位監測儀

5.1.5采用一級氧化處理含氰廢水時，可采用圖5.1.5的基本工

藝流程。采用間歇式處理，當設置兩格反應沉淀池交替使用時，可

不設調節池人人文庫專用。

圖5.1.5一級氧化處理含氰廢水的基本工藝流程

ORP—氧化還原電位監測儀

·01·

5.1.6含氰廢水經氧化處理后，應根據其含其他污染物的情況進

行后續處理。

5.1.7處理含氰廢水的氧化劑可采用次氯酸鈉、漂白粉和二

氧化氯等。氧化劑的投入量應通過氧化還原電位控制；也可按

氰離子與活性氯的質量比計算確定，采用一級氧化處理時，質

量比宜為1∶3～1∶4；采用二級氧化處理時，質量比宜為1∶7～

1∶8。

5.1.8采用一級氧化處理含氰廢水時，當采用次氯酸鈉、漂白粉

作氧化劑，反應過程pH值宜控制為10～11，當采用二氧化氯作

氧化劑，反應過程pH值宜控制為11～11.5；當采用次氯酸鈉、二

氧化氯作氧化劑，反應時間宜為10min～15min，當采用漂白粉干

投時，反應時間宜為30min～40min。采用二級氧化處理含氰廢

水，第二級氧化反應過程pH值宜控制為6.5～7.0，反應時間宜

為10min～15min。

5.1.9連續處理含氰廢水時，反應pH值的控制和氧化劑的投藥

量應采用在線自動監控和自動加藥系統，第一級氧化階段氧化還

原電位應為300mV～350mV，第二級氧化階段氧化還原電位應

為600mV～700mV。

5.1.10反應池應采取防止有害氣體逸出的封閉和通風措施。

5.2含鉻廢水

人人文庫專用Ⅰ鐵氧體法處理含鉻廢水

5.2.1鐵氧體法處理含鉻廢水，其廢水中六價鉻離子濃度宜大于

10mg/L。

5.2.2采用間歇式處理含鉻廢水時，可采用圖5.2.2的基本工藝

流程。

·11·

圖5.2.2間歇式處理含鉻廢水的基本工藝流程

5.2.3采用連續式處理含鉻廢水時，可采用圖5.2.3的基本

工藝流程。

圖5.2.3連續式處理含鉻廢水的基本工藝流程

5.2.4處理含鉻廢水的還原劑應采用硫酸亞鐵人人文庫專用，且應采用濕

投。

5.2.5硫酸亞鐵的投入量應按六價鉻離子與七水合硫酸亞鐵的

重量比計算確定，并應符合下列規定：

1當廢水中六價鉻離子濃度小于25mg/L時，應為1∶40～

1∶50。

2當廢水中六價鉻離子濃度為25mg/L～50mg/L時，應為

·21·

1∶35～1∶40。

3當廢水中六價鉻離子濃度為50mg/L～100mg/L時，應為

1∶30～1∶35。

4當廢水中六價鉻離子濃度大于100mg/L時，應為1∶30。

5.2.6處理含鉻廢水過程中的廢水pH值，應符合下列規定：

1投加硫酸亞鐵前廢水的pH值不宜大于6。

2硫酸亞鐵與廢水混合反應均勻后，應將pH值調整至

7～8。

5.2.7向廢水投加堿后應通入空氣，并應符合下列規定：

1當廢水中六價鉻離子濃度小于25mg/L時，應將廢水與藥

劑攪拌均勻后，再停止通氣。

2當廢水中六價鉻離子濃度在25mg/L～50mg/L時，通氣

時間宜為5min～10min。

3當廢水中六價鉻離子濃度大于50mg/L時，通氣時間宜為

10min～20min。

4每立方米廢水所需的空氣量宜為0.1m3/min～

0.2m3/min。

5.2.8用鐵氧體法間歇式處理含鉻廢水時，經混合反應后的靜止

沉淀時間可采用40min～60min，相應的污泥體積宜為處理廢水體

積的25%～30%。

5.2.9污泥轉化成鐵氧體的加熱溫度宜為70℃～80℃。采用間

歇式處理時，宜將幾次廢水處理后的污泥排入轉化槽后集中加熱；

當受條件限制時人人文庫專用，可不設轉化槽，每次廢水處理后的污泥應在反應

沉淀池內加熱。

5.2.10鐵氧體法間歇式處理含鉻廢水的一個處理周期宜為

2.0h～2.5h。

Ⅱ亞硫酸鹽還原法處理含鉻廢水

5.2.11亞硫酸鹽還原法處理含鉻廢水可采用圖5.2.11的基本

工藝流程。

·31·

圖5.2.11亞硫酸鹽還原法處理含鉻廢水的基本工藝流程

5.2.12含鉻廢水量小于40t/d，且含六價鉻離子的濃度變化較

大時，宜采用間歇式處理，當設置兩格反應沉淀池交替使用時，可

不設廢水調節池，其固液分離方式宜采用靜止沉淀。含鉻廢水量

大于或等于40t/d，且含六價鉻離子濃度變化幅度不大時，可采用

連續式處理，固液分離方式宜采用斜管(板)沉淀池、氣浮等設施。

采用連續式處理含鉻廢水時，反應過程的pH值和氧化還原電位

值應采用在線自動控制。

5.2.13采用亞硫酸鹽還原法處理含鉻廢水應符合下列規定：

1廢水反應的pH值宜為2.5～3，氧化還原電位宜小于

300mV。

2廢水反應過程無在線自動監控和自動加藥系統時，加藥量

可按六價鉻離子與亞硫酸氫鈉的質量比人人文庫專用1∶3.5～1∶5投加。

3亞硫酸鹽與廢水混合反應時間宜為15min～30min。

4亞硫酸鹽與廢水混合反應均勻后，應加堿調整pH值至

7～8。

5.2.14采用亞硫酸鹽間歇式處理含鉻廢水時，反應沉淀池的有

效容積宜為3h～4h的平均廢水量，反應后的沉淀時間宜為

1.0h～1.5h，反應沉淀池應密封，并應設置通風裝置。

·41·

Ⅲ槽內處理法處理含鉻廢水

5.2.15槽內處理法處理含鉻廢水的還原劑，宜采用亞硫酸氫鈉

或水合肼。

5.2.16采用槽內處理法處理含鉻廢水的工藝流程應符合下列

規定：

1在酸性條件下以亞硫酸氫鈉或水合肼為還原劑時，可采用

圖5.2.16-1的基本工藝流程。化學清洗槽宜根據還原劑失效控

制的難易程度確定，可采用一級或兩級。

圖5.2.16-1酸性條件下槽內法處理含鉻廢水的基本工藝流程

2在堿性條件下以水合肼為還原劑時，可采用圖5.2.16-2

的基本工藝流程。

人人文庫專用

圖5.2.16-2堿性條件下槽內法處理含鉻廢水的基本工藝流程

·51·

5.2.17化學清洗液中的還原劑濃度、pH值應符合下列規定：

1當采用亞硫酸氫鈉為還原劑時，清洗液中還原劑濃度宜為

3g/L，pH值宜為2.5～3.0。

2當采用水合肼(有效濃度40%)為還原劑時，化學清洗液

中還原劑濃度宜為0.5g/L～1.0g/L。用于鍍鉻清洗時，溶液的

pH值宜為2.5～3.0；用于鈍化清洗時，溶液的pH值宜為8～9。

5.2.18化學清洗槽的有效容積可按下式計算，并應滿足鍍件對

槽體尺寸的要求：

dCoATm

V=(5.2.18)

CR

式中：V———化學清洗槽有效容積(L)；

d———單位面積鍍液帶出量(L/dm2)；

Co———回收槽溶液中六價鉻離子濃度(g/L)；

A———單位時間清洗鍍件面積(dm2/h)；

T———使用周期，當采用亞硫酸氫鈉為還原劑時，不宜超

過72h；

m———還原1.0g六價鉻離子所需的還原劑量，亞硫酸氫鈉

宜為3.0g～3.5g，水合肼(有效濃度40%)宜為

2.0g～2.5g；

CR———化學清洗液中的還原劑濃度。

5.2.19失效溶液處理槽的容積可按化學清洗槽的容積確定。

人人文庫專用5.3含鎘廢水

5.3.1化學法處理含鎘廢水時，宜采用氫氧化物沉淀。廢水中鎘

離子濃度不宜大于50mg/L。

5.3.2采用氫氧化物沉淀處理含鎘廢水時，其廢水中不得含有氰

化物。

5.3.3化學法處理含鎘廢水可采用圖5.3.3的基本工藝流程。

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圖5.3.3化學法處理含鎘廢水的基本工藝流程

5.3.4廢水反應的pH值應大于或等于11。反應的時間宜為

10min～15min，反應池宜設置機械攪拌或水力攪拌。

5.4混合廢水

5.4.1下列廢水不得排入混合廢水處理系統內：

1含各種絡合劑超過允許濃度的廢水。

2含各種表面活性劑超過允許濃度的廢水。

5.4.2化學法處理混合廢水宜采用連續式處理，且可采用圖

5.4.2的基本工藝流程。

人人文庫專用

圖5.4.2化學法處理混合廢水的基本工藝流程

5.4.3混合廢水中含有鎘、鎳離子時，應采用二級處理，第一級處

理過程中pH值應控制在8～9，第二級處理過程中pH值應控制

在大于或等于11；混合廢水中不含有鎘、鎳離子時，應采用一級

·71·

處理。

5.4.4經化學法處理后廢水中的污泥濃度可按下式計算：

Cjs=KC1+2C2+1.7C3+Css(5.4.4)

式中：Cjs———廢水中污泥濃度(mg/L)；

K———系數。以硫酸亞鐵為還原劑時，當廢水中六價鉻離

子濃度等于或大于5mg/L時，K值宜為14；當廢水

中六價鉻濃度小于5mg/L時，K值宜為16；以亞硫

酸鹽為還原劑時，K值宜為2；

C1———廢水中六價鉻離子濃度(mg/L)，當廢水中離子濃度

小于5mg/L時，應以5mg/L計算；

C2———廢水中鐵離子總